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Saure Texturierung


Inline-System zur Entfernung der durch das Sägen entstandenen Verunreinigungen; mit der sauren Texturierung wird gleichzeitig die Wafer-Oberfläche vergrößert


Spezifikationen:
•  Reduzierte Ein- und Ausschleppung von Chemikalien
•  Kürzerer und stabilerer Prozess
•  Hohe Prozessstabilität garantiert hohe Reproduzierbarkeit
•  Laufende Erhebung/Visualisierung der Prozessparameter erlaubt eine durchgehende Prozesskontrolle
•  Stabile Prozesse durch automatischen Austausch der Prozessflüssigkeit
•  Rückstandsfreie Trocknung durch ausgeklügeltes Trockengebläse
•  Spezielles Transportsystem verhindert Waferbruch
•  Flexible Produktionsoptionen für die gleichzeitige Prozessierung verschiedener Wafergrößen


Produktdatenblatt:

Horizontal_Etching_Line_e.pdf


 
Aktuelles:

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