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Bei Anwendung von fotoaktivem Resist ist es notwendig, die Strukturen frei zu legen, die für die Funktion des Produktes notwendig sind. Dieser Prozess wird auf nasschemischem Wege durchgeführt.

Key Benefits

Inline-System zum Entwickeln von Resiststrukturen

  • Effektives Entwickeln von Resiststrukturen durch präzise einstellbare und kontrollierte Prozessparameter.
  • Erreichen gleichmäßiger Prozessergebnisse durch optimale Prozessführung und optimale Gestaltung der Medienverteilung auf der Substratoberfläche.
  • Prozessieren der Glassubstrate und Folien mit einer hohen Prozesssicherheit und Anlagenverfügbarkeit.