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Diffusion Furnace

Im Diffusionsofen werden, die durch den vorgelagerten Prozess aufgetragenen, Phosphoratome in die Oberfläche des Wafers eingelagert. Dadurch werden im Wafer bewegliche Elektronen frei, die für den späteren Ladungstransport verantwortlich sind. Eine gleichmäßige Temperaturverteilung im Diffusionsofen gewährleistet einen homogenen Schichtwiderstand. Die Diffusionszone ist metallfrei und verhindert Einlagerungen von Metallatomen.

Key Benefits

Inline-System zur Emitter-Erzeugung

  • Metallfreier Diffusionsbereich
  • Homogene Temperaturverteilung über spezielle Lampensteuerung
  • Keine Wasserkühlung erforderlich
  • Sehr kurzer Kühlbereich, nur Waferkühlung erforderlich
  • Digitale Überwachung der Zu- und Abluft