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PentaBlue

Das PentaBlue-Beschichtungssystem nutzt die plasmaunterstützte Gasphasenabscheidung (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition, PECVD), um Wafer mit einer Antireflexionsschicht aus Siliziumnitrid zu überziehen. Durch den Einsatz eines Direktplasmareaktors wird im Vergleich zum Remoteplasmareaktor der Wirkungsgrad der Zellen erhöht und eine höhere Dichte der Siliziumnitridschicht erreicht. Das PentaBlue-Beschichtungssystem gewährleistet durch hohe Prozesstemperaturen und den reproduzierbaren direkten Plasmaprozess eine exzellente Oberflächenpassivierung und eine extrem gute Schichtverteilung.

Key Benefits

PentaBlue System zur Siliziumnitrid-Antireflexionsbeschichtung

  • Exzellente Oberflächenpassivierung durch Hochtemperaturprozess und Direktplasma
  • Extrem gute Schichtverteilungen
  • Stabiler und reproduzierbarer Prozess
  • Flexibles, modulares und skalierbares Design
  • Durchsatz bis zu 3.600 Wafer pro Stunde