In diesem Verfahren wird die einseitige Kantenisolation mit der Phophorsilikatglasentfernung kombiniert. Die im Diffusionsprozess auf der Waferunterseite entstandene Emitterschicht wird von der Oberseite des Wafers einseitig isoliert, um Fehlfunktionen der Solarzelle zu vermeiden. Im nachfolgenden, maschinenintegrierten Prozess, wird das Phosphorglas von der Waferoberfläche entfernt.

Inline-System zur nasschemischen Kantenisolation mit gleichzeitigem Entfernen der Phosphorglas-Schicht

• Vorder- und Rückseiten-Potentialtrennung durch einseitige, nasschemisches Kantenisolationsätzen
• Bis zu 80 % geringerer Chemieverbrauch gegenüber herkömmlichen Verfahren
• Gleichmäßige Rückseitenätzung durch Drehen der Wafer in einer Drehstation (Neuentwicklung)
• Stabile und reproduzierbare Prozesswerte durch automatische, kontrollierte Nachdosierung
• Geringe Chemikalienverschleppung
• Minimierte Bruchrate durch schonenden Rollentransport mit geringer Kontaktauflage
• Kontinuierliche Umwälzung der Chemie
• Rückstandsfreie Trocknung durch Dry Jet Trockner
• Erweiterungsfähige Prozesslinie